Requisitos principales de rendimiento del objetivo

Objetivo de titanio

La pureza es uno de los principales indicadores de rendimiento del objetivo, porque la pureza del objetivo tiene un gran impacto en el rendimiento de la película.

Objetivos (herramientas decorativas) para objetivos múltiples de ingeniería de superficie

Nombre del producto Densidad de pureza recubrimiento de color dimensiones generales dimensiones de la industria

Objetivo de aleación de aluminio de titanio (TIAL) 2N8-4N 3.6-4.2 ORO ROSA / Diámetro cilíndrico de café

60/65/95/100*30/32/40/45 mm Fingir

Ornamento

Objetivo de cromo puro (CR) 2N7-4N siete puntos One Nine White / Negro Cilíndrico

Titanio puro (Ti) objetivo) 2n8-4n cuatro puntos cinco un oro / arma negra

Azul / Rose Cilíndrico

Objetivo de circonio puro (ZR) 2N5-4N Six Point Five Golden Cilindrical

Objetivo de aluminio puro (AL) 4n-5n dos puntos siete cilíndrico de plata

Objetivo de níquel puro (Ni) 3n-4n ocho puntos nueve color natural metálico cilíndrico

Objetivo de vanadio de níquel (NI) 3n ocho puntos cinco siete turquesa cilíndrica

Objetivo puro de niobio (NB) 3n ocho puntos cinco siete cilíndrico blanco

Tantalum puro (TA) objetivo 3N5 dieciséis puntos cuatro cilíndricos negros / morados

Objetivo de molibdeno puro (MO) 3N5 diez puntos dos cilíndricos negros

Requisitos principales de rendimiento del objetivo

Requisitos principales de rendimiento del objetivo:

pureza

La pureza es uno de los principales indicadores de rendimiento del objetivo, porque la pureza del objetivo tiene un gran impacto en el rendimiento de la película. Sin embargo, en aplicaciones prácticas, los requisitos de pureza del objetivo también son diferentes. Por ejemplo, con el rápido desarrollo de la industria de la microelectrónica, el tamaño de la oblea de silicio ha crecido de 6 \"a 8 \" a 12 \", y el ancho de cableado se ha reducido de 0.5um a 0.25um, 0.18um o incluso 0.13 Um. En el pasado, el 99.995% de la pureza objetivo puede cumplir con los requisitos del proceso de 0.35 ímic, mientras que la preparación de 0.18um líneas requiere 99.999% o incluso 99.9999% de la pureza objetivo.

Contenido de impureza

Las impurezas en sólidos objetivo y vapor de oxígeno y agua en los poros son las principales fuentes de contaminación de las películas depositadas. Diferentes objetivos para diferentes propósitos tienen diferentes requisitos para diferentes contenidos de impurezas. Por ejemplo, los objetivos de aleación de aluminio puro y aleación de aluminio utilizados en la industria de semiconductores tienen requisitos especiales para el contenido de metales alcalinos y elementos radiactivos.

Densidad

Para reducir los poros en el sólido objetivo y mejorar las propiedades de las películas pulverizadas, generalmente se requiere que el objetivo tenga una alta densidad. La densidad del objetivo no solo afecta la velocidad de pulverización, sino que también afecta las propiedades eléctricas y ópticas de las películas. Cuanto mayor sea la densidad objetivo, mejor será la actuación de la película. Además, al aumentar la densidad y la resistencia del objetivo, el objetivo puede resistir mejor el estrés térmico en el proceso de pulverización. La densidad también es uno de los indicadores clave de rendimiento del objetivo.

Distribución de tamaño de grano y grano

Por lo general, el material objetivo es policristalino, y el tamaño del grano puede variar de micras a milímetro. Para el mismo objetivo, la tasa de pulverización del objetivo con grano fino es más rápida que la del objetivo con grano grueso; La distribución de grosor de las películas depositadas por la pulverización objetivo es más uniforme cuando la diferencia de tamaño de grano es pequeña (distribución uniforme).